Китай пробива технологичната блокада със собствено масово производство на литографски оборудвания за 7-нанометрови чипове

Глобалната битка за технологично превъзходство навлиза в нов горещ етап, след като Китай официално започва масовото производство на собствени системи за дълбока ултравиолетова литография (DUV) с имерсионна технология. Този ход представлява директен отговор на затягащите се ограничения от страна на Запада и има за цел да подсигури производството на чипове на китайска земя, съкращавайки зависимостта от външни доставчици.

Държавно подкрепено предприятие, базирано в Шанхай, вече организира индустриалния процес, като първите апарати се очаква да бъдат внедрени в заводите още през настоящата година. Информационните масиви показват, че първоначалните партиди са предназначени за най-големите играчи в местния сектор, сред които SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Замисълът предвижда скромните пет инсталации през тази година да бъдат последвани от сериозен скок с още близо двадесет машини през следващата.

Изборът на тези три компании за първи получатели не е случаен. Срещу тях се подготвят допълнителни регулаторни мерки от страна на американските законодатели, целящи пълното прекъсване на търговските им връзки с холандския гигант ASML – безспорният световен лидер в доставката на оборудване за микрочипове. В отговор Пекин консолидира инженерните ресурси на няколко вътрешни стартъпа, включително и екипи от Shanghai Yuliangsheng Technology, чиито прототипи вече преминават през тестови изпитания в реална производствена среда.

Въпреки че по-голямата част от компонентите в новите китайски DUV системи са с местен произход, постигането на пълен суверенитет все още среща спънки. Някои от критичните оптични елементи продължават да се доставят от Япония, а забавянията във веригата от местни поддоставчици ограничават първоначалния капацитет на производство.

В същото време ASML запазва огромно предимство на глобалната сцена с планирани над сто и тридесет имерсионни доставки за годината. Приходите на холандската компания от китайския пазар обаче бележат отчетлив спад спрямо предходните периоди – отбелязвайки свиване от една трета до около една пета от общия им оборудвателен поток. Това е пряко следствие както от търговските ограничения, така и от постепенната ориентация на местните производители към собствени алтернативи.

Специалистите отбелязват, че китайската имерсионна DUV технология е способна да произвежда 28-нанометрови елементи при единично експониране, а чрез технологията на многократното моделиране може да достигне и до 7-нанометрови процеси. Този метод обаче носи със себе си високи рискове от разминаване в слоевете и по-нисък процент на крайната годна продукция в сравнение с по-модерната, но недостъпна за Китай EUV (екстремна ултравиолетова) литография.

Анализаторите са категорични, че процесът по пълно сертифициране и фина настройка на китайските машини ще отнеме месеци, като тяхната производителност и прецизност все още отстъпват на западните аналози. Разработването на собствен работещ EUV прототип в страната също продължава, но то остава далеч от реално масово приложение във фабриките. Независимо от тези препятствия, началото на собственото серийно производство на DUV оборудване изпраща ясен сигнал към глобалния пазар за темповете, с които Азия гради своята технологична автономия.